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育晶论坛第二十六期学术活动顺利举办

发布日期:2024-05-10   点击量:

5月9日,第二十六期山东大学“育晶论坛”成功举办,华东师范大学物理系研究员靳彩霞博士受邀作为本期论坛主讲嘉宾,为平台师生作了题为“SiC/TaC涂层在半导体领域的应用研究”的报告。本次论坛现场设在半导体研发大楼第一会议室举办,线上、线下参会师生40余人,由大平台李树强教授主持。

耐高温、抗腐蚀SiC/TaC涂层石墨部件广泛应用于宽禁带半导体单晶生长、外延和材料刻蚀工艺过程。报告介绍了半导体产业链组成和产业现状,对碳化硅陶瓷和石墨基材SiC/TaC涂层产品市场需求、制备技术、研究进展及产业化现状进行了系统阐述。报告指出,第三代半导体产业即将进入快速增长,通过装备、关键零部件、工艺和应用的全链协同创新可以加快产品开发和工艺熟化进程,提高产业竞争力。

报告期间,靳博士和现场师生围绕新型涂层制备技术、反应过程机理、涂层寿命、产品成本等方面进行了讨论。此后,徐现刚教授向靳彩霞博士表示感谢并颁发证书。

靳彩霞,复旦大学物理学博士,美国德州技术大学博士后,华东师范大学物理系研究员、博士生导师。现任深圳市志橙半导体材料股份有限公司副总经理,分管生产制造和石墨基底上的SiC、TaC涂层制备研发。靳博士从事化合物半导体材料生长和光电器件研发及产业化20多年,在国内外刊物发表论文30余篇,申请专利10余项,承担了多项国家级课题项目,具有丰富的化合物半导体装备研制、材料生长和器件开发经验。

为树牢师生创新意识,营造浓厚学术氛围,紧跟学术前沿,把握行业动态,晶体材料国家重点实验室、集成攻关大平台决定举办“育晶论坛”系列学术活动,每周邀请领域内杰出学者开展常态化学术交流,通过线上线下方式面向师生开放。