 |
主讲人：刘开辉 教授时间：2024年12月13日（周五）上午10:30地点：中心校区半导体研发大楼第一会议室报告摘要光学晶体（如BBO、KBBF、LiNbO3等）具备实现激光频率转换、参量放大、信号调...
主讲人：陈培见 教授时间：2024年12月8日（周日）上午10:00地点：中心校区半导体研发大楼第一会议室报告摘要随着高新科技的发展，薄膜-基底系统广泛应用于热障涂层、柔性电子以及微电子...
主讲人：刘强博士时间：2024年12月4日（周三）上午9:30地点：中心校区半导体研发大楼第一会议室报告摘要氮化镓由于其性能优异被广泛应用于光电、功率和射频领域，然而由于高质量氮化镓体...
主讲人：黄换 副研究员时间：2024年11月27日（周三）上午10:00地点：中心校区半导体研发大楼第一会议室报告摘要同步辐射X射线吸收精细结构谱学（X-ray Absorption Fine Structure, XAFS...
主讲人：赵明 技术总监时间：2024年11月22日（周五）上午9:00地点：中心校区半导体研发大楼第一会议室报告摘要Gallium nitride (GaN) devices have emerged as a superior alternative t...
主讲人：于盛旺时间：2024年8月26日（周一）下午14:00地点：中心校区半导体研发大楼第一会议室报告摘要MPCVD法是制备高品质金刚石的最佳方法，近几年MPCVD技术发展迅速。本报告主要介绍...
主讲人：姜辛时间：2024年8月26日（周一）下午14:00地点：中心校区半导体研发大楼第一会议室报告摘要1、Different diamond and carbon-based composite films and structures have been ...
主讲人：靳彩霞时间：2024年5月9日（周四）下午15:00地点：中心校区半导体研发大楼第一会议室报告摘要耐高温、抗腐蚀SiC/TaC涂层石墨部件广泛应用于宽禁带半导体单晶生长、外延和材料刻...
主讲人：杜春水时间：2024年4月9日（周二）下午15:00地点：中心校区半导体研发大楼第一会议室报告摘要发展新能源是实现碳达峰、碳中和的有效途径，攸关国家经济发展和能源安全。面向国家...
主讲人：刘金龙时间：2024年1月30日（周二）下午14:00地点：中心校区半导体研发大楼第一会议室报告摘要近年来随着CVD金刚石制备技术的进步，其应用得到极大拓展。本次报告主要介绍了当前...
