主讲人：靳彩霞

时间：2024年5月9日（周四）下午15:00

地点：中心校区半导体研发大楼第一会议室

报告摘要

耐高温、抗腐蚀SiC/TaC涂层石墨部件广泛应用于宽禁带半导体单晶生长、外延和材料刻蚀工艺。本次报告将介绍石墨基底上SiC层和TaC涂层制备工艺研究以及在半导体领域中产业化的应用进展，重点介绍CVD方法制备SiC涂层以及熔盐蒸镀法制备TaC涂层的研究进展及产业化状况。

个人简介

复旦大学物理学博士，美国德州技术大学博士后，华东师范大学物理系研究员、博士生导师。现任深圳市志橙半导体材料股份有限公司副总经理，分管生产制造和石墨基底上的SiC、TaC涂层制备研发。

靳博士从事化合物半导体材料生长和光电器件研发及产业化20多年，在国内外刊物发表论文30余篇，申请专利10余项，承担了多项国家级课题项目，具有丰富的化合物半导体装备研制、材料生长和器件开发经验。